Laporkan Masalah

Penentuan profil konsentrasi ion dopan pada lapisan semikonduktor silikon diimplantasi dengan ion fosfor tenaga 30 KeV dan 60 KeV

DWIJANANTI, Pratiwi, Prof.Dr.Ir. Prayoto, M.Sc

1996 | Tesis | S2 Ilmu Fisika

Kata Kunci : Ilmu Fisika,Ionisasi


    Tidak tersedia file untuk ditampilkan ke publik.